论文部分内容阅读
随着电子科学技术的迅速发展和电子类产品集成度和性能的不断提高,晶圆的生产规模也在不断地扩大。对半导体晶圆表面缺陷的在线检测,成为半导体生产工艺中极其重要的一环。本文从光学表面检测的原理入手,开发研制了一种基于偏振光干涉成像及相移干涉术的精密晶圆检测系统和装置。本文首先全面的分析了光学表面形貌检测方法的原理,对干涉测量技术做了细致研究,在偏振光干涉成像及相移干涉术的理论基础上,经过比较分析找出最适合课题要求和实验室开发环境的方法,制定了精密晶圆检测仪的光学系统方案。对相移偏振干