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由于非晶合金薄膜具有独特的性能,如高硬度、高耐磨性、较好的耐腐蚀性、优异的催化性能,因此既有着重要的科学价值又有着广泛的应用前景。然而低成本的制备特定成分的非晶合金薄膜还是一大挑战。同时,人们对非晶合金薄膜生长机理和变形机制的认识依然较少。本论文中,我们首先通过电沉积方法制备了Pd40Ni40P20非晶合金薄膜。伏安极化曲线和计时电位曲线分析表明,Pd元素在生长的初期阶段起主导作用。通过成分、形貌以及电化学分析,可将电沉积Pd40Ni40P20的过程叙述为Pd诱导的PdNiP共沉积过程,并伴随着析氢反应。接着,为了定量地描述表面演变过程,通过原子力显微镜和电化学分析方法研究了PdNiP非晶薄膜的表面动力学粗化。结果发现界面宽度w(l,t)服从奇异标度行为,主要标度指数为：H=0.60±0.06,βloc=0.47±0.03 andβ=0.19±0.03.结果分析表明,PdNiP薄膜的动力学粗化可能由两个因素控制：大的沉积过电位和扩散的不稳定。然后,结合原子力显微镜和基于同步辐射的相衬成像技术,分别对二元PdP和NiP非晶薄膜表面的生长粗化进行了研究。结果在PdP体系中发现了奇异标度行为：H=0.75±O.06,βloc=0.49±0.07 andβ=0.38±0.08.相反的是,NiP体系却表现为近似正常标度的行为：H=0.70±0.02,βloc≈0 andβ=O.16±0.03.结果表明,薄膜生长时剧烈的析氢反应(HER)所产生的局域作用会造成扩散的不稳定,从而影响着薄膜生长的标度行为,令表面的生长粗化由正常标度(例如NiP体系)转变为奇异标度(例如PdP和PdNiP体系)。最后,采用弯曲方法研究了PdP非晶合金薄膜的变形行为。结果表明当PdP非晶合金薄膜的厚度尺寸降低到某一临界值时,室温下的非晶合金在压应力作用下会发生均匀变形。这一临界尺寸和温度相关：随着变形温度的升高,临界尺寸增大。在薄膜进行均匀变形过程中未观察到温度的升高及硬度的变化。但是,本文研究的所有的薄膜样品在拉伸应力下都产生裂纹,这表明非晶合金的变形模式强烈依赖于应力状态。