【摘 要】
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WO_3薄膜因具有着色效率高、可逆性好、响应时间短、寿命长、着色和褪色时的光学变化范围较宽等优点，被认为是最有发展前景的电致变色材料之一。 采用中频孪生非平衡磁控溅射制备WO_3薄膜，室温沉积的薄膜为非晶态。运用X射线衍射(XRD)，拉曼光谱、红外光谱、紫外分光光度计、计时安培分析仪和原子力显微镜(AFM)等测试手段分析了薄膜的结构和光学性能。实验结果表明：热处理温度低于300℃时，WO_3
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WO_3薄膜因具有着色效率高、可逆性好、响应时间短、寿命长、着色和褪色时的光学变化范围较宽等优点，被认为是最有发展前景的电致变色材料之一。 采用中频孪生非平衡磁控溅射制备WO_3薄膜，室温沉积的薄膜为非晶态。运用X射线衍射(XRD)，拉曼光谱、红外光谱、紫外分光光度计、计时安培分析仪和原子力显微镜(AFM)等测试手段分析了薄膜的结构和光学性能。实验结果表明：热处理温度低于300℃时，WO_3薄膜呈非晶态，热处理温度在300℃～400℃之间WO_3薄膜发生非晶态向多晶的转
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