In组分及温度对InGaN合金拉曼声子模影响及基于嵌段共聚物模板的GaN量子点生长

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Ⅲ族氮化物半导体材料的禁带宽度可从0.7eV到6.2eV连续变化,覆盖了从近红外到紫外波段光谱范围,同时基于其优良的光电及化学性质,在制作光电子器件以及高温、高频、大功率电子器件方面具有很大的优势和应用前景。对于Ⅲ族氮化物的结构及光电性质研究就显得相当重要,拉曼散射是研究半导体材料结构性质的重要手段之一,通过拉曼光谱研究InGaN材料性质具有科学意义。同时,Ⅲ族氮化物的低维量子结构具有奇特的光学、电学性质,因此探索生长高质量的氮化物半导体量子结构方法也是研究的重点。本文内容将主要分为两个部分。第一个部分重点研究In组分对InGaN合金拉曼散射(Raman)声子模式的影响。利用XRD衍射角度计算出InxGa1-xN薄膜合金In组份x范围为0.34≤x≤1。室温下拉曼散射光谱测量发现,该系列InxGa1-xN合金的Al(LO)与E2(high)声子模峰位随着In组分x的增加均向低波数移动,峰位随组分的关系满足单模模式的变化规律。变温(93K-673K)测量的拉曼散射光谱显示,由于晶格热膨胀和格点的非简谐振动的温度效应共同作用,InGaN的A1(LO)模峰位随着测量温度的升高向低波数非线性地偏移。第二部分,基于嵌段共聚物光刻方法纳米孔模板,利用金属有机物化学汽相淀积(MOCVD)方法二次生长出GaN量子点结构,通过对生长时间及温度的优化,获得了密度高达9.44×1010cm-2,直径尺寸范围在28±4nm,排列有序、尺寸较均一的GaN量子点。室温光致荧光光谱(PL)观察到在410nm处有较强的发光峰,并利用X光小角反射模拟得到模板厚度及量子点结构的高度。
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