纯钛作为理想的义齿支架材料已经广泛应用于口腔修复领域。但铸造后表面易产生气孔,耐磨性差,易被氟化物腐蚀并析出离子,这些缺点需要通过表面改性来解决。类金刚石膜(DLC)作为新兴工业材料已得到广泛应用。但在口腔修复中应用较少,原因是韧性不足,颜色单一,与金属基底结合力差。本课题拟通过研制纳米渗氮类金刚石复合膜以及寻找最佳镀膜工艺参数来改善义齿钛支架的性能,使其达到口腔修复临床应用的要求。实验方法是:1.采用脉冲真空多弧等离子体镀膜技术制备渗氮含氢非晶碳膜,在N2气氛中预处理纯钛表面形成TiN梯度膜,再采用甲烷与氮气混合沉积类金刚石薄膜;2.对比已有的纯钛表面修饰方法(TiN、阳极氧化)采用磨耗试验机测试DLC薄膜的摩擦性;用能谱分析和扫描电镜观察DLC薄膜的表面成分与形态;润湿角测量仪检测薄膜的润湿性;细菌黏附试验对比DLC薄膜黏附白色念珠菌的数量;改变沉积时间观察DLC薄膜表面颜色变化;细胞毒性实验测试DLC薄膜的生物安全性。3.临床观察渗氮类金刚石薄膜应用效果。主要实验结果如下:1类金刚石薄膜工艺参数的确定⑴①脉冲真空电弧离子源的镀膜均匀性随主回路电压减小而变好。主回路电压越小,膜厚分布的均匀性越好,根据误差需要选择200V。②脉冲真空电弧离子源的镀膜均匀性基本不随工作频率的变化而变化,根据误差选择3Hz。③脉冲真空电弧离子源的镀膜均匀性随阴极表面和基片的距离增大而变好,阴极表面和基片的距离越远,膜厚分布的均匀性越好,根据误差选择270mm⑵通过对脉冲真空电弧离子源不同入射角对薄膜性能的影响的研究,得到如下结论:从薄膜性能角度分析,脉冲真空电弧离子源入射角在45°以内,沉积获得的薄膜具有最佳的硬度,但从薄膜均匀性角度来看,当入射角超过30°,沉积薄膜均匀性变化较大。综合以上分析,权衡利弊,脉冲真空电弧离子源入射角应限制在30°以内。⑶综合测定氮气/甲烷变化结果,可以得出下列结论:①随工艺中氮气/甲烷比值的增大,薄膜中氮含量随之增大。②氮掺入DLC薄膜后,改变了薄膜的微观结构,产生几十纳米量级的颗粒。③SEM、XPS分析表明纳米级颗粒是富含氮元素的非晶氮化碳CNx结构。④DLC/CNx致密的纳米复合结构,减小了薄膜的内应力。2渗氮类金刚石薄膜性能检测⑴就薄膜耐磨性和膜基结合力而言,渗氮类金刚石薄膜最好,TiN薄膜次之,阳极氧化薄膜和空白组最差。耐磨且与基底结合良好的DLC薄膜不仅可以提高纯钛义齿支架的使用寿命也可以提高支架的使用质量。⑵渗氮类金刚石薄膜耐腐蚀性优于TiN薄膜、阳极氧化薄膜和空白组未镀膜组,体现为无明显的破解电位和较低的自腐蚀电位。⑶纯钛镀制渗氮类金刚石薄膜的表面具有良好的润湿性增加了纯钛修复体戴用的舒适性,患者感到与黏膜更加贴合。并且不会影响对树脂的结合强度,有望应用于口腔修复临床。⑷纯钛表面镀制渗氮类金刚石薄膜后在口腔实际应用过程中可以明显降低白色念珠菌的黏附量,从而降低罹患义齿性口炎的风险。⑸渗氮类金刚石薄膜在沉积时间改变时会出现不同的外观颜色,当沉积时间在30min时可以出现较量的金黄色,比纯钛的本色更美观。⑹细胞毒性实验结果表明,本课题所测试的渗氮类金刚石薄膜对小鼠成纤维细胞无毒性,不干扰生物细胞的功能可认为无毒,符合生物相容性要求。3渗氮类金刚石薄膜的临床应用效果观察纯钛义齿支架镀制渗氮类类金刚石薄膜后应用于临床,患者的主观满意度较好。对比未镀膜的纯钛义齿,镀膜组在改善色素沉着,口感等方面明显具有优势,这为镀膜改性技术在今后的实际应用提供了依据。根据上述的实验结果,可以得出以下结论:渗氮类金刚石薄膜经过改变传统工业镀膜参数,可以镀制在复杂外形的齿科修复体表面;应用于纯钛义齿支架后,提高了纯钛的耐磨性,耐腐蚀性,保持了良好的润湿性从而增加了戴用舒适度,同时对支架与热凝树脂的结合力没有影响;当改变沉积时间时还可以获得金黄色的外观,增进了纯钛义齿的美感,细菌黏附试验证明渗氮类金刚石薄膜具有抵抗白色念珠菌黏附的能力;细胞毒性检测渗氮类金刚石薄膜对小鼠成纤维细胞无毒性,不干扰生物细胞的功能。经临床试用得到了患者的肯定,改善了义齿常出现的色素沉着,颜色变暗问题,口感更加舒适,从而为类金刚石镀膜改性技术在口腔修复领域应用进行了有益的实践。