纳米压印是一种简单的纳米图形复制的工艺，对比传统光刻，纳米压印具有高分辨率、低成本、高产率、制作周期短的特点。纳米压印模板是纳米压印工艺中最重要的部分，纳米压印模板的主要材料是硅和石英，而硅、石英材料易脆不易加工且加工费昂贵。金属镍耐腐蚀、耐热、强度高、韧性好，具有良好的机械性能，可替代硅成为制备纳米压印模板的重要材料。本文研究了纳米坑镍模板、纳米柱镍模板的制备工艺，并且对镍模板纳米压印铝和热压乙烯-四氟乙烯共聚物塑料(ETFE)薄膜进行了详细研究。　　第一，以紫外纳米压印为基础结合微电铸镍工艺制备了纳米坑镍模板，并研究了镍模板的内应力消除和抗粘层处理工艺。内应力的存在使镍模板变得弯曲，经过退火处理之后，镍模板内部存在的内应力大大减少，镍模板呈现平整的状态，适合实际纳米压印应用。为了降低镍模板的表面能，在镍模板表面沉积单分子层抗粘层，处理前后表面水接触角由49.6°增加到129.7°，进行纳米压印时能明显改善脱膜效果。　　第二，以制备纳米坑镍模板工艺为基础，使用两次图形转移的方法制备了纳米柱镍模板，并对纳米柱镍模板进行了去应力实验和抗粘层处理，纳米柱镍模板变得平整，表面接触角由41.7°增加到126.9°，具有良好的疏水性。　　第三，纳米柱镍模板纳米压印金属铝，可使铝表面形成规律的纳米坑阵列，通过阳极氧化得到高度有序的多孔氧化铝模板。结合纳米压印技术还可以得到规整的纳米凹坑结构的铝衬底和纳米锥型聚二甲基硅氧烷(PDMS)模板。　　第四，镍模板压印乙烯-四氟乙烯共聚物塑料ETFE薄膜时，使材料表面纳米图形化，材料本身的性质比如表面疏水性和透过率会发生相应改变。对比没有纳米图形的ETFE薄膜，图形化的ETFE薄膜透过率得到提高，表面水接触角增大，可达到161.3°，具有超疏水特性。图形化的ETFE薄膜可以用作薄膜太阳能电池的封装材料，来提高光透过率和改善自清洁性能。