黄光激光器聚光元件减反膜的研究

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为满足589nm黄光激光器聚光元件上双波段减反膜的使用要求,即在589nm反射率要求控制在2%-3%之间、1064nm反射率小于1%。本文以Ta205和Si02为镀膜材料,以减反膜的设计理论为基础,分别设计了周期膜系减反射膜和非周期膜系减反射膜。并根据实验得到的光学常数使用TFC膜系设计软件对非周期膜系进行了优化。薄膜的制备运用电子束蒸发和离子束辅助沉积方法,通过调整沉积速率、离子源参数、充氧量、基底温度等工艺参数,解决了两个波段同时增透而且589nm反射率在2%-3%之间难以控制的问题,制备了589nm反射率在2.8%,1064nm的反射率为0.1%的减反射膜,满足使用要求。
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