随着薄膜被越来越广泛的使用，人们对薄膜的性能与功能提出了新的要求，对薄膜的研究工作也在随着这些要求的不断出现而日趋深化。雕塑薄膜由于它的微观可控性，使得它拥有广阔的运用前景。　　 本文先从普通薄膜生长理论出发，分析薄膜的微观结构，说明雕塑薄膜生长时与常规薄膜的不同之处，从而分析雕塑薄膜的微观结构及其成因。将雕塑薄膜类比于光学晶体材料，并考虑雕塑薄膜的特殊性，建立适用于雕塑薄膜的等效折射率模型，推导出适合计算单层雕塑薄膜光学常数的公式。在普鲁泰镀膜机上，分别以65°、70°、75°、80°、85°的沉积角镀制TiO2和SiO2薄膜，通过光谱分析，得出不同的工艺参数对这些薄膜的折射率和厚度的影响。用椭偏仪分析雕塑薄膜的各向异性，并通过建模拟合，表征雕塑薄膜的微观结构。用椭偏测量结果检验前面建立起的等效折射率模型，分析结果，并指出本课题实验结果不足之处，对雕塑薄膜的前景进行展望。