超宽带双波段增透膜镀制工艺技术研究—0.43~0.9微米及1.54微米增透膜镀制

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光学薄膜技术作为现代光学技术的一个重要分支,随着现代科学技术的飞速发展,光学薄膜器件及技术得到了越来越广泛的应用。特别在军用光电领域,多光谱、多传感器融合技术对复杂膜层的要求变得迫切。本文对超宽带增透膜镀制工艺技术进行了研究,制作了0.4~0.9微米及1.54微米增透膜,膜层平均透过率大于99%。 膜层的镀制是一个涉及许多学科的复杂过程。本文对在镀膜过程中影响膜层性能的工艺因素进行了分析、研究;提出要结合所使用镀膜机的状况,在膜系设计、镀膜材料的性能研究、材料的稳定蒸发、膜层厚度的实时监控等技术方面多做工作,采取措施来保证膜层制做的稳定性、经济性。 本文给出了在ZZSX-800镀膜机上镀制超宽带增透膜的工艺过程。
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