【摘 要】
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目前应用最广泛的透明导电膜是铟锡氧化物薄膜(ITO),其制备技术是成熟的,但由于InSn等材料有自然储量少、制备工艺复杂、有毒、稳定性差等缺点。因此,急需一种替代产品来满足人们的需要。ZAO(氧化锌铝)薄膜不仅具有与ITO可比拟的电学和光学特性,而且有储量丰富、易于制造、成本较低、无毒、热稳定性好等优点。ZAO薄膜是最佳的ITO膜替代品。本文研究了ZAO靶材的制备、性能及利用磁控溅射法制备ZAO透
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目前应用最广泛的透明导电膜是铟锡氧化物薄膜(ITO),其制备技术是成熟的,但由于InSn等材料有自然储量少、制备工艺复杂、有毒、稳定性差等缺点。因此,急需一种替代产品来满足人们的需要。ZAO(氧化锌铝)薄膜不仅具有与ITO可比拟的电学和光学特性,而且有储量丰富、易于制造、成本较低、无毒、热稳定性好等优点。ZAO薄膜是最佳的ITO膜替代品。本文研究了ZAO靶材的制备、性能及利用磁控溅射法制备ZAO透明导电薄膜的光电性能、结构和形貌。在磁控溅射镀膜实验中ZAO靶材的选择和制备很重要,靶材
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