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本论文使用镶嵌的复合靶在直流磁控溅射设备上制备氮化钼基的纳米复合薄膜，并对薄膜的摩擦性能、硬度、抗氧化性能等性能进行了研究，同时还利用了XPS、XRD、SEM、TEM等手段对薄膜的微观结构进行了表征。通过研究探索，揭示了薄膜硬度、摩擦系数减小、抗氧化温度提高的一些机理。本文的主要研究结果如下:
1)采用直流磁控溅射方法，利用复合靶在不同衬底上沉积了Mo-Al-Si-N硬质薄膜。对薄膜的微观结构、成分组成、表面形貌、硬度、弹性模量、抗氧化等性能进行了表征，研究了Al含量对Mo-Al-Si-N硬质薄膜性能的影响。发现当Al含量为10at％时薄膜的硬度和弹性模量分别达到最大值为29GPa和350GPa，而薄膜的抗氧化温度随着Al含量的增加而逐渐升高。当Al的含量为13at％时薄膜的抗氧化温度达到了610℃。
2)采用直流反应磁控溅射方法利用复合靶材在不同衬底上沉积了Mo-Si-C-N硬质薄膜。对薄膜的微观结构、成分组成、表面形貌、硬度、摩擦系数等性能进行了表征，发现在C含量为0-12at％的范围内增加时，薄膜的晶粒尺寸从32nm减小到了5nm，而且薄膜的摩擦系数从0.24减小到了0.17，当C含量为9at％时薄膜的硬度最大，达到了27GPa。
3)采用直流反应磁控溅射方法利用复合靶材在不同衬底上沉积了Mo(C)N/Mo(C)多层硬质薄膜。并对薄膜的微观结构、成分组成、表面形貌、硬度、抗氧化等性能进行了表征，发现薄膜的硬度随着调制周期（相邻两层薄膜的厚度和）的减小而增大，当调制周期为150nm时薄膜的硬度达到了31GPa，同时薄膜的抗氧化温度也随着调制周期的减小而提高。当调制周期为150nm时薄膜的抗氧化温度为630℃左右。表明多层薄膜的厚度对多层薄膜的性能有很大的影响。
4)利用直流磁控溅射方法用复合靶材在不同衬底上沉积了Mo2N/MoS2复合硬质薄膜。对薄膜的微观结构、成分组成、表面形貌、硬度、摩擦系数等性能进行了表征，得到了优化的薄膜成分条件。