【摘 要】
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该论文采用多弧离子镀工艺和空心阴极离子镀工艺两种镀膜工艺,研究了在1Cr11Ni2W2MoV热强马氏体不锈钢基体上沉积了TiN和不同Al含量的(TiAl)N薄膜的可行性.采用金相显微镜、X
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该论文采用多弧离子镀工艺和空心阴极离子镀工艺两种镀膜工艺,研究了在1Cr11Ni2W2MoV热强马氏体不锈钢基体上沉积了TiN和不同Al含量的(Ti<,1-x>Al<,x>)N薄膜的可行性.采用金相显微镜、X射线衍射、扫描电镜、电子探针、俄歇电子能谱和光电子能谱等分析手段,通过力学性能测试和热重分析等实验方法,研究了Al含量对薄膜的化学成分、微观结构(相组成、织构取向、致密性等)、力学性能(硬度、膜基结合强度、摩擦磨损性能等)及抗氧化性能的影响.采用空心阴极离子镀工艺难以在基体表面得到单相(Ti<,1-x>Al<,x>)N薄膜,而是Al富集于膜基界面,从膜基界面向外呈梯度分布的Ti(Al)N薄膜,虽然Ti(Al)N薄膜中的Al主要富集于界面,但与TiN薄膜相比其组织结构和择优取向发生了明显的变化,并且晶粒细化.Ti(Al)N薄膜的抗氧化性能相比TiN明显提高.
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