金属材料广泛应用于半导体器件中,研究如何提高金属的光透射率对提高半导体器件的性能有重要的现实意义。通过在金属上制作周期性空气孔,或在金属中引入介质材料制作金属.介质多层膜结构,可以使金属在某些波长透射增强。增强透射现象可以用于信号选择器、滤波器、生物传感和探测等领域,具有广阔的应用前景。深入研究增强透射的原理和过程有重要的现实意义。　　 第一章是研究背景,从材料科学的发展历程出发,介绍了表面等离子体的现象和应用,论述了金属-介质多层膜的研究价值和应用前景。　　 第二章介绍了FDTD算法和表面等离子体的基本理论,为后面两章的分析奠定了理论基础。　　 第三章研究了第一种增强透射的方法,即在金属板上制作周期孔状结构。研究了一维金属光栅的近红外透射谱以及光栅中的电磁场能量的分布,分析了增强透射的过程和原理。研究了光栅透射谱与各个结构参数的关系,利用结构参数设计了一个对通信波长1550nm的开关器件。针对一维金属光栅的缺点,提出了多层金属光栅结构。　　 第四章研究了第二种增强透射的方法,即在金属中加入介质材料,制作金属.介质多层膜结构,提出了带侧壁和引入SiO2渐变层的Au-GaAs多层结构,就侧壁厚度、衬底厚度、渐变层厚度对结构的光透射影响进行了分析。分析了各种结构中的电磁场能量分布。研究了多层膜的周期结构,发现周期结构存在类似光子晶体的电磁带隙。研究了电磁波在周期结构的传输机制,分析了空气缝宽度对带隙的影响,为多层膜在光电子器件中的应用提供参考价值。