预备体颈部边缘形态设计及全瓷冠制作技术对冠边缘适合性的影响

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[目的]本实验研究基牙预备体颈部不同边缘形态设计及不同的e.max全瓷冠制作工艺对全瓷修复体边缘适合性的影响,为临床全瓷修复体的牙体预备及制作工艺的选择提供理论参考。[方法]20颗无龋损上颌前磨牙随机分为4组,每组5个,分别使用直径1.35mm的135°平行钨钢车针(C135组)、直径1.4mm的圆头平行钨钢车针(CDC组)、直径1.6mm的135°平行金刚砂车针(D135组)和直径1.6mm的圆头平行金刚砂车针(DDC组)进行全瓷冠牙体预备。对20颗基牙采用Trios光学印模数据采集后,使用相应软件设计IPS e.max全瓷冠。采用3种工艺制作全瓷冠:传统失蜡热压铸造法制作IPS e.max Press全瓷冠(WHP组)、CAD/CAM切削法制作IPS e.max CAD全瓷冠(CM组)和3D打印树脂热压铸造法制作IPS e.max Press全瓷冠(RHP组)。使用硅橡胶数字化扫描法,在三维逆向工程软件Geomagic Control中测量e.max CAD全瓷冠结晶烧结前、结晶烧结后后及上釉烧结后及e.max Press全瓷冠上釉烧结前后二维边缘间隙和三维边缘间隙,其中二维边缘间隙指修复体内表面到预备体边缘终止线的垂直距离,三维边缘间隙指预备体边缘终止线上0.8mm的修复体与预备体之间的平均间隙。使用双因素方差分析统计不同边缘形态和制作技术对全瓷冠边缘适合性的影响,并对制作技术组和边缘形态组分别进行ANOVA单因素方差分析,和SNK多重检验。[结果]1.不同边缘设计对IPS e.max全瓷冠边缘适合性的影响在WHP组中,浅凹形边缘形态组的全瓷冠的二维边缘间隙和三维边缘间隙分别 C135 组 113.80±35.84μm和 86.35±17.30μm,及 D135 组 84.23±10.51μm和72.20±12.89μm;而深凹形边缘形态组中CDC组为79.36±21.1 1μm和71.16±16.13μm,及 DDC 组为 88.48±24.97μm 和 81.96±15.57μm。即在 WHP 组中,浅凹形边缘和深凹形边缘的全瓷冠边缘间隙没有统计学差异(P>0.05)。在CM组中,浅凹形边缘形态组的全瓷冠的二维边缘间隙和三维边缘间隙分别 C135 组 80.48±10.47μm和 98.78±11.75μm,及 D135 组 90.90±17.12μm 和113.53±19.53μm;而深凹形边缘形态组中CDC组76.74±13.57μm和95.52±11.36μm,及 DDC 组 79.36±18.48μm 和 92.85±18.81μm。即在 CM 组中,浅凹形边缘和深凹形边缘的全瓷冠边缘间隙没有统计学差异(P>0.05)。在RHP组中,浅凹形边缘形态组的全瓷冠的二维边缘间隙和三维边缘间隙分别 C135 组 105.84±39.39μm和 117.93±23.37μm,及 D135 组 90.14±61.26μm 和100.65±37.78μm;而深凹形边缘形态组中 CDC 组 56.59±18.19μm 和 82.37±7.85μm,及DDC组96.88±36.52μm和110.79±21.67μm。即在RHP组中,浅凹形边缘和深凹形边缘的全瓷冠边缘间隙没有统计学差异(P>0.05)。2.不同制作技术对IPS e.max全瓷冠边缘适合性的影响在CDC组中,制作技术组全瓷冠的三维边缘间隙由小至大分别为WHP组71.16±16.13μm、RHP 组 82.37±7.85μm和 CM 组 95.52±11.36μm,说明 CDC 组中制作技术对全瓷冠三维边缘间隙有显著影响(P=0.027<0.05)。其余制作技术组在同一边缘形态组中的二维边缘间隙和三维边缘间隙均无统计学差异(P>0.05),但WHP组三维边缘间隙均小于CM组和RHP组。[结论]在同一制作技术下,浅凹形边缘和深凹形边缘两种边缘形态对e.max全瓷冠的边缘间隙没有显著影响,即当仅考虑全瓷冠边缘适合性时,两种颈部边缘形态均可使用。在同一边缘形态下,传统失蜡热压铸造法、CAD/CAM切削法和3D打印树脂热压铸造法三种制作方法对e.max全瓷冠边缘间隙有影响,其中传统热压铸造法制作的全瓷冠的边缘更密合。
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