在国内寻求产业结构升级、国外追加技术管制清单的背景下,如何推荐合适的技术研发路径、匹配相应的技术赶超模式是实现我国在集成电路领域后发先至的关键。目前,学界已经结合案例分析深入研究了技术赶超和范式转换的理论框架,然而在如何基于量化方法识别和匹配技术赶超模式上还存在不足。本研究基于主路径和word2vec方法提出了一种基于技术路径变化的赶超模式识别方法,为客观、科学地推荐特定企业的技术研发路径、匹配特定领域的技术赶超模式、测度特定领域和企业的技术演化方向提供统一的框架。首先,本研究在现有的多路径研究的基础上,结合技术邻近度从目标领域的技术扩散路径中识别出适用于目标企业的技术研发路径。然后,基于表层相似度和潜在相似度的双层技术空间模型测度技术扩散路径的演化,并在这一架构下匹配相应的技术赶超模式。最后,本研究基于技术空间中实体的向量表示,从用途、理论、材料、时间四种视角分别构造了不同的技术演化光谱,用于进一步研究技术赶超背后的范式转移和演化方向。本文不仅丰富了技术路径研究的量化工具,还拓展了技术赶超研究的理论框架。这有利于后续研究者从动态演化的视角研究目标领域和目标企业技术演化的多维特征,从而挖掘技术研发路径,技术赶超模式和技术演化方向三者之间的关联。