扫频干涉测量方法是一种性能优异的测量方法,相对于其他的测量手段它具有精度较高、不存在测距盲区和能够测量绝对距离以及非合作目标等优势。在使用较大的扫频带宽的情况下,此方法即使在测量目标回光强度较低的情况下依旧可以获得较高的测量精度,这使得它在测量透明光学元件的折射率和厚度上拥有了独特的优势。本文主要研究了基于线性扫频干涉测量系统的光学元件折射率和厚度测量技术,设计单扫频干涉和双扫频干涉两种测量系统对目标折射率和厚度进行测量,并通过理论分析和仿真验证了这两种测量方案的特性和可行性,最后搭建了对目标光学元件的折射率和厚度测量系统,证明这两种系统都能以的较高的精度对目标元件的折射率和厚度进行测量。在理论分析部分中,分析了单扫频干涉测量技术和双扫频干涉测量技术的基本原理,并分析了激光器调频非线性、辅助干涉仪光纤色散和目标振动导致的多普勒效应对于这两种扫频干涉测量系统的测量带来的影响,并对应这些影响因素各自的特性给出了消除的方法。并根据实际情况和文献资料对折射率和厚度的测量方案进行了基本的设计。在测量系统搭建以及性能测试部分中,分别搭建了单扫频干涉测量系统和双扫频干涉测量系统的测距光路并编写了自动控制程序用于进行快速的测量和对焦。通过实验分别测试两者的合作和非合作目标的测量能力。通过仿真和实验对这两种系统的多目标测量能力进行验证。并对这两个系统的单目标和多目标测量能力进行不确定度分析。在之前仿真和实验的基础上搭建了用于测量光学元件折射率和厚度的测量装置,经过实验测得单扫频干涉测量系统的折射率测量重复性为4.32×10^-4（k=2,折射率无量纲）厚度测量重复性为2.4μm（k=2）,双扫频干涉测量系统的折射率测量重复性为6.80×10^-4（k=2,折射率无量纲）厚度测量重复性为3.2μm（k=2）。通过之前的不确定度分析和实验结果导出了折射率和厚度测量的相对不确定度的公式,经验证其与实际情况相符。