激光作为20世纪最伟大的发明,已经成为国家综合实力的象征之一。由于紫外全固态激光器体积小、能量大、光束质量高以及工作稳定性好等优点,在国防、精密加工、医学和科学研究等领域得到了广泛应用。基于CBO晶体优良的特性,278nm全固态激光系统有望成为一种可实用化高功率新型短波紫外全固态激光源。本文根据278nm全固态激光系统技术要求,在JGS1基底上,选择金属铪和UV-Si O2作为薄膜材料,研制了一种倍频分离膜和高反膜用于二倍频激光和四倍频激光的分离。在分析了光谱性能随膜系周期变化规律的基础上,结合电场强度对薄膜激光损伤阈值和光学损耗的影响,完成了膜系的优化设计。借助多种测试手段及分析软件,通过对比实验优化了薄膜沉积工艺,减小了由于工艺因素引起的光学损耗。通过对薄膜制备工艺进行探究,制定了详细的基底清洗流程;设置了使膜料充分预熔的程序;选择了合适的膜厚监控方式;优化了离子源清洗和辅助沉积的工艺参数。通过对试验片光谱反演,分析出造成误差的主要因素,制定了降低膜厚控制误差的有效方案。当入射角为45°时,最终制备的倍频分离膜在278nm处的透过率为98.82%,556nm波长处反射率为99.80%,高反膜在278nm处反射率为99.60%,在40°～50°范围内光谱平均值满足技术要求。经过测试,倍频分离膜抗激光损伤阈值为12.53J/cm2,高反膜为14.41J/cm2,抗激光损伤能力良好,耐环境性能优异。