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由于金刚石烧结体（Polycrystalline Diamond，简称PCD）中中介相及未与金刚石反应的残留物的存在影响了金刚石烧结体的性能。而采用纳米金刚石无粘结剂或微量的烧结来制造PCD则可以较好地解决这一问题。但是纳米金刚石极易吸附杂质，阻碍了纳米金刚石表面悬键自由地搭接，同时加快纳米金刚石在烧结过程中的石墨化，从而阻碍了烧结。因此如何去除纳米金刚石表面吸附物的问题成了研究的重点。本文利用高锰酸钾溶液、在真空、大气流、真空后充氢和惰性气体等不同条件下对纳米金刚石进行处理。通过XRD、TEM、FTIR、DTA及DSC等技术手段研究纳米金刚石的热稳定性及其处理前后表面官能团的情况。结果表明，纳米金刚石在空气中的起始氧化温度约为550 ℃；在Ar中的石墨化温度约为1184 ℃，在真空中的石墨化温度约为1381 ℃。用高锰酸钾溶液、在大气流、真空、惰性气体条件下对纳米金刚石进行处理，可以部分地去掉其表面官能团，但会引入更多的杂质，使纳米金刚石氧化和石墨化，而且不能解决二次吸附的问题，因此这些处理方法各自存在着不足。纳米金刚石在真空后充氢条件下处理，则较好地去除了其表面官能团，表面官能团解吸或被氢取代之后，表面悬键自由地搭接，解决了二次吸附的问题。这些对纳米金刚石处理的研究结果，将有助于下一步研究纳米金刚石烧结体的合成。