【摘 要】
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该论文主要利用类金刚石DLC薄膜的优良性能,例如具有硬度高,摩擦系数小和化学稳定性以及红外光学性能,将类金刚石薄膜（DLC）沉积于多孔硅（PS）表面上作为钝化膜,可以起到稳定多孔硅
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该论文主要利用类金刚石DLC薄膜的优良性能,例如具有硬度高,摩擦系数小和化学稳定性以及红外光学性能,将类金刚石薄膜（DLC）沉积于多孔硅（PS）表面上作为钝化膜,可以起到稳定多孔硅的发光性能的作用.该论文采用阳极氧化法制备多孔硅,并采用射频等离子体化学气相沉积法（RFCVD）在多孔硅表面上获得了类金刚石薄膜.通过PL光谱、FTIR红外吸收光谱、原子力显微镜AFM和I-V、C-V曲线对类金刚石/多孔硅薄膜的形貌、发光性能和电学性质进行了表征.分别讨论了制备条件对多孔硅发光性能的影响和类金刚石/多孔硅薄膜的光电性质.通过类金刚石/多孔硅薄膜的电学性能的测试,我们发现Au/DLC/PS/Si/Al材料的I-V曲线表现出整流特性.类金刚石薄膜通过掺氮以后,其载流子浓度会适当增加.而由低掺氮的材料C-V曲线表明,低掺氮时类金刚石薄膜还是一高阻材料.
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