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本文以‘幻影’大花蕙兰(Cymbidium Hybridum Walu‘Idol’)为材料,进行了组织培养和离体保存技术研究,以期建立组培体系及离体保存技术程序,为大花蕙兰品种的规范化生产和种质资源的安全有效保存提供技术支撑。主要结果如下:(1)建立‘幻影’大花蕙兰以茎尖为外植体的两种不同再生途径的组培体系:①茎尖诱导原球茎途径:茎尖外植体先用70%的酒精溶液消毒30s,0.1%的升汞溶液处理10min,剥至最后一枚叶片用0.05%的升汞溶液处理2min效果好,存活率达到81.9%;诱导原球茎的最佳培养基为MS+6-BA1.5mg/L+NAA0.1mg/L,原球茎最佳增殖和分化培养基分别为MS+6-BA 2.0mg/L+NAA0.1mg/L和1/2MS+6-BA2.0mg/L+ NAA0.5mg/L;1/2MS+NAA0.1mg/L+AC0.5g/L为最适生根的培养基,生根率达到80%。移栽基质采用蛭石:泥炭=1:2代替常用基质苔藓,节约生产成本。②茎尖诱导丛生芽途径:外植体灭菌方法同上;MS+6-BA1.5mg/L+NAA0.1mg/L为茎尖诱导丛生芽的最佳培养基;芽苗可直接在初代培养基中生根,80d后移栽,选用保水透气性好的基质蛭石:泥炭=1:2,小苗成活率为100%。(2)建立了‘幻影’大花蕙兰原球茎和试管苗的限制生长保存技术程序。①原球茎最佳限制生长保存程序:继代30d的原球茎在10℃常低温条件下保存效果最好,期限为3个月,原球茎恢复培养后的存活率为53.3%,平均分化倍数2.5。②试管苗最佳限制生长保存程序:以继代30d的试管苗在10℃常低温条件下保存效果最好,保存至今达到12个月,试管苗生长缓慢,更长时间的保存试验仍在进行中。10℃保存试管苗恢复生长后没有出现明显冻伤现象,长势良好。通过添加调节渗透性化合物、生长抑制剂和调节培养基养分水平等方法保存试管苗的期限较短,试管苗生长速度快,而且有引起体细胞变异的可能性,因此低温保存法更有利于保持植物种质资源的遗传稳定性,可广泛应用于大规模生产实践中。(3)初步建立了‘幻影’大花蕙兰原球茎的玻璃化超低温保存体系。①继代30d的原球茎在25±1℃附加60g/L山梨醇的MS空白培养基上预培养5天,Loading溶液装载40min,0℃PVS2玻璃化溶液处理50min,换新鲜PVS2溶液,快速浸入液氮,40℃水浴中解冻60s,Unloading溶液洗涤10min,重复洗涤两次,接种到MS+6-BA2.0mg/L+NAA0.1mg/L中暗培养2周。2周后观察可见,原球茎超低温保存后再生,再生率为10%。再生植株可进行正常的继代增殖以及生根和移栽。②茎尖玻璃化超低温保存后经TTC检测有较高存活率,但没有再生,可能与试验材料的苗龄、继代次数,生长状态密切相关,有待进一步研究。