激光干涉纳米光刻技术不需要昂贵的光学投影系统,将两束或两束以上相干激光束相组合成不同的形式干涉,对光致抗蚀剂曝光,这是一种可以广泛应用于光电子器件和微电子器件生产和制造的技术。由于它可以在大面积范围内得到非常精细的周期性二维图形,因此可以用于制作周期结构图样。但是由于当前实时纳米级尺寸检测技术的局限性,以及制造环境、温度等的影响导致了很难实现整体大面积刻蚀。在诸如太阳能的应用领域,光刻图样表面结构能提高光能的利用效率。将光刻图样应用到太阳能电池板,提高太阳能的光电转换效率是使太阳能这一新型能源大规模工业化生产的重要基础。本文针对激光干涉纳米技术呈现的高分辨率和成本低的优点,研究可以实现大面积干涉光刻图样曝光和大面积拼接方法。获得大面积图样后,通过原子力显微镜(AFM)扫描,检测其部分表面结构,分析图样表面的反射率,并对其反射率进行检测。