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随着多晶硅产业的发展,妥善处理多晶硅产业中的副产物SiCl_4,实现SiCl_4无害化应用产业化,成为多晶硅和太阳能产业急需解决的问题。为了探索处理多晶硅副产物SiCl_4之路,本论文以SiCl_4为原料,采用沉淀法制备出了理化性能优越的二氧化硅粉末,并在此基础上采用3-氨丙基三乙氧基硅烷(APTES)将SiO_2粒子表面修饰上氨基(-NH_2)官能团,获得表面功能化的SiO_2粒子,利用凯氏定氮法对SiO_2表面的氨基含量进行了测定,确定了最佳修饰条件下SiO_2表面氨基(-NH_2)的含量。最后