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采用射频磁控溅射技术实现了K9光学玻璃上增透膜的镀制,试验中通过改变各工艺参数, 得到了光学性能良好的多层增透膜,并着重研究了基片温度对薄膜光学性能的影响,检测结果进一步验证了工艺参数的适当选择对增透膜光学性能有着重要影响的结论。
Ta2O5/SiO2多层增透膜的工艺研究
【摘 要】
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采用射频磁控溅射技术实现了K9光学玻璃上增透膜的镀制,试验中通过改变各工艺参数, 得到了光学性能良好的多层增透膜,并着重研究了基片温度对薄膜光学性能的影响,检测结果进
【机 构】
：
东北大学;
【发表日期】
：
2004年期
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