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用抛描电子显微镜对不同基材温度（１５０，２５０，３５０和４５０℃）的离子镀ＴｉＮ膜的断口形貌进行了观察。结果表明，随着基材温度的升高，其柱状晶变为致密的组织结构；并探讨了低温离子镀对ＩＰ－ＴｉＮ膜的生长及组织结构的影响。
基材温度对IP-TiN膜生长及组织结构的影响
【摘 要】
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用抛描电子显微镜对不同基材温度（１５０，２５０，３５０和４５０℃）的离子镀ＴｉＮ膜的断口形貌进行了观察。结果表明，随着基材温度的升高，其柱状晶变为致密的组织结构；并探讨了低温离子镀对ＩＰ－ＴｉＮ膜的生长及组织结构的影
【机 构】
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腐蚀与防护国家重点实验室(沈阳)
【出 处】
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'96中国材料研讨会
【发表日期】
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1996年期
其他文献
文中阐述了一套以微机、数字化示波仪、分散式数据采集器、特制微型硅二极管温度计及铜一康铜热电偶为核心的自动化测温系统。此系统数采速度可达20μs／word，测温精度为0.3K，分