【摘 要】
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采用准分子激光刻蚀的方法在PMMA基片上制作同心圆环微结构.采用三角形掩模版刻蚀出的,圆环底面为斜面.比较了相同实验条件下直线轨迹与圆环轨迹的刻蚀深度.并将计算得到的深
【机 构】
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北京工业大学激光工程研究院,北京100124
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采用准分子激光刻蚀的方法在PMMA基片上制作同心圆环微结构.采用三角形掩模版刻蚀出的,圆环底面为斜面.比较了相同实验条件下直线轨迹与圆环轨迹的刻蚀深度.并将计算得到的深度与实际加工的深度进行了对比.对理论计算结果与实际加工结果存在差异的原因进行了讨论.测量了样品的所有圆环的刻蚀深度,在准分子激光加工条件不变的情况下随着圆环半径的增大刻蚀深度呈现出减小的趋势.分析了加工参数对刻蚀深度的影响.
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