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本文介绍了硅研磨片清洗的重要性,分析了影响研磨质量的主要因素,即重金属杂质和磨盘印.重点阐述了硅研磨片表面沾污的原理,并且通过大量的实验分析得到清洗液的最佳配比以及清洗的最佳时间和温度.
硅研磨片清洗技术的研究
【摘 要】
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本文介绍了硅研磨片清洗的重要性,分析了影响研磨质量的主要因素,即重金属杂质和磨盘印.重点阐述了硅研磨片表面沾污的原理,并且通过大量的实验分析得到清洗液的最佳配比以及
【机 构】
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河北工业大学信息工程学院(天津)
【出 处】
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第十三届全国半导体集成电路、硅材料学术会
【发表日期】
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2003年期
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