化学镀纳米铜膜的显微结构及电阻率

来源 :2006年全国博士生学术论坛——材料科学分论坛 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yy136301854
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本文采用化学镀铜法,在玻璃表面制备了纳米铜膜,利用原子力显微镜(AFM)研究了铜膜表面形貌的变化。结果表明,在玻璃表面形成完整致密的化学镀铜膜需要约3min左右的时间,根据晶粒尺寸和电阻率数据,利用电阻率组合模型计算了晶界散射系数(R)以及表面和晶界散射对总电阻率的贡献,结果表明晶界散射对总电阻率的贡献比表面散射对总电阻率的贡献大很多,也说明晶界数目的增多是造成总电阻率偏高的主要因素。
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