【摘 要】
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采用UV/H2O2间歇式光氧化反应器,研究了溶液pH值及水中常见阴离子HCO3-、NO3-、CO32-、Cl-和SO42-对UV/H2O2工艺降解EE2的影响.结果表明,UV/H2O2工艺可以有效地去除水中的EE2,溶液中的阴离子HCO3-、NO3-、Cl-和SO42-对UV/H2O2光降解反应有抑制作用,四者浓度为5mmol/L时,抑制作用依次为HCO3-＞SO42-＞Cl-＞NO3-,HCO3
【机 构】
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同济大学污染控制与资源化研究国家重点实验室,上海,200092 上海市自来水市北有限公司,上海,2
【出 处】
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中国土木工程学会水工业分会给水深度处理研究会2005年年会
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采用UV/H2O2间歇式光氧化反应器,研究了溶液pH值及水中常见阴离子HCO3-、NO3-、CO32-、Cl-和SO42-对UV/H2O2工艺降解EE2的影响.结果表明,UV/H2O2工艺可以有效地去除水中的EE2,溶液中的阴离子HCO3-、NO3-、Cl-和SO42-对UV/H2O2光降解反应有抑制作用,四者浓度为5mmol/L时,抑制作用依次为HCO3-＞SO42-＞Cl-＞NO3-,HCO3-可使光降解速率常数降低到50％.自来水中的光降解速率常数低于蒸馏水中的光降解速率常数是水中多种离子影响的结果.
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