【摘 要】
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印染废水因其有机物含量高、色度深、成分复杂、不易降解而成为极难处理的工业废水之一.半导体光催化氧化法,作为新的污染治理技术被越来越多的研究者应用于难降解废水的处理
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印染废水因其有机物含量高、色度深、成分复杂、不易降解而成为极难处理的工业废水之一.半导体光催化氧化法,作为新的污染治理技术被越来越多的研究者应用于难降解废水的处理.其中TiO<,2>因其无毒、光稳定性好且成本低的优点而成为广泛采用的催化剂.然而,TiO<,2>受光激发后生成的电子-空穴对容易发生复合,光催化效率较低,是制约光催化技术工业化应用的主要因素.许多研究表明通过掺杂等手段对TiO<,2>进行改性是提高TiO<,2>的光催化效率和拓展光响应范围的有效手段.本文以溶胶-凝胶-浸渍法制备了RuO<,2>/TiO<,2>复合光催化剂,研究了其对直接耐晒黑G的光催化降解,并探讨了各种因素对其催化活性的影响.
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