2. 您的位置
3. 首页
4. 会议论文
5. 硅研磨片表面的预清洗

硅研磨片表面的预清洗

来源 :1998年全国半导体硅材料学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：nm76181156

【摘 要】

：

该文提出硅研磨片的预清洗工艺，就是在磨片清洗之前的前置处理。用高压喷洗 、超声波平超和助洗 剂浸泡等方法，以使硅研磨片清洗一次成品率较大幅度的提高。

【作 者】

：

郭生贵 蒋建国 郝美功 

【机 构】

：

单晶硅有限责任公司

【出 处】

：

1998年全国半导体硅材料学术会议

【发表日期】

：

1998年期

【关键词】

：

硅研磨片 表面 清洗工艺 前置处理 成品率 超声波 喷洗 浸泡 高压 方法 

下载到本地 , 更方便阅读

下载此文 赞助VIP

声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架

论文部分内容阅读

该文提出硅研磨片的预清洗工艺，就是在磨片清洗之前的前置处理。用高压喷洗 、超声波平超和助洗 剂浸泡等方法，以使硅研磨片清洗一次成品率较大幅度的提高。

其他文献