界面电场及残余应力对FeFET电学性能的相场模拟

来源 :第十三次全国物理力学大会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:joyancy_baby
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利用基于金兹堡-郎道(TDGL)方程的相场计算方法,用有限元法以及有限差分法分别计算了弹性能以及静电能,模拟了铁电材料与基底间的界面电场以及铁电材料与电极间的残余应力对FeFET畴结构的影响及其演变过程.进一步结合标准的MOSFET器件方程,模拟了界面电场、残余应力对金属-铁电层-绝缘层-半导体(MFIS)结构的FeFET的P-V C-V以及I-Ⅴ等电学性能的影响.FeFET器件结构决定了其铁电层会存在较大的界面电场和残余应力,通过铁电畴的翻转变化,可以体现出界面电场及残余应力对FeFET电学性能影响的变化过程,将有助于理解铁电存储器失效机制,提高FeFET存储器的性能.
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