【摘 要】
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以全氢聚硅氮烷(PHPS)为先驱体,采用氨水转化法在Si片基底上制备了SiOx涂层.利用扫描电镜(SEM)、紫外光谱仪、椭圆偏振仪、纳米压痕仪等对涂层的形貌、厚度、光学性能和力学
【机 构】
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中国科学院化学研究所,北京 100190
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以全氢聚硅氮烷(PHPS)为先驱体,采用氨水转化法在Si片基底上制备了SiOx涂层.利用扫描电镜(SEM)、紫外光谱仪、椭圆偏振仪、纳米压痕仪等对涂层的形貌、厚度、光学性能和力学性能进行了表征.结果表明在氨水气氛中,不同处理时间获得的涂层对可见光的透过率均大于95％,具有良好的透明性;随着处理时间的增加,涂层的折光指数变小,硬度和模量增大;处理4h后,PHPS完全转化为SiOx,涂层厚度约为280 nm,610 nm波长处折光指数约为1.41,硬度和模量分别达到3 GPa和60 GPa;继续延长处理时间,涂层的折光指数、硬度和模量基本不变.
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