ICP-MS仪器在改善信噪比信背比方面的进展

来源 :中国金属学会第十三届分析测试学术年会——冶金及材料分析测试学术报告会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:damoxian
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
文章综述了近年来在等离子体质谱仪(ICP-MS)在改善仪器信噪比和信背比性能方面的进展.论述了仪器的信噪比和信背比与实际分析下限的关系,以及背景和背景噪声的来源.介绍了用于改善仪器信噪比和信背比的新的仪器锥口设计和新的离子提取模式。
其他文献
本文研究了用辉光放电质谱法(GDMS)同时测定不锈钢中的多元素.对辉光放电参数如电流、电压、预溅射时间进行了优化.通过对分析元素质谱干扰情况的考察,选择合适的同位素用于分析,同时建立校正公式对被干扰的Ti,Mo同位素进行校正.直接测定了不锈钢块状样品中的15种元素,该方法具有很好的准确度和精密度.
研究了加钇挤压变形对2A70铝合金组织性能的影响,确定该工艺下适宜的时效制度为:人工时效温度170℃,保温10-12 h.采用金相显微镜、扫描电子显微镜(SEM)观察组织形貌,并在力学性能试验机上测试样品的强度和塑性.结果表明,加钇后形成的稀土化合物固态质点为结晶提供了异质晶核,另外,稀土化合物在结晶界面上偏聚,阻碍晶胞的长大,细化了2A70铝合金的晶粒;挤压铸造后挤压变形可以细化铸件显微组织,消
将X射线衍射定量分析方法和X射线应力分析结合起来测量了双相钢中的微观应力,并根据测得的微观应力对X射线测得的宏观残余应力进行了调整,与机械法测得的宏观残余应力进行了比较,表明将二种X射线测量方法结合起来可以更准确的了解材料中存在的各类内应力.
本文针对欧盟RoHS指令限制使用六价铬等有害物质的规定和用户对钢板涂镀层中六价铬检测的需求,对目前国内外普遍采用的EPA 3060和ISO 3613等标准在钢板涂镀层中六价铬检测的适用性进行了阐述,分析了钢板涂镀层中六价铬检测存在的问题,研究确定了钢铁涂镀产品各涂镀层溶解剥离和定量的方法,实现了涂镀层中六价铬含量的准确测定.
主要介绍了利用不同的表面分析技术测定钢板表面纳米级氧化膜的比较.辉光放电光谱法的分析速度快,分析结果定量、精密度实验表明测定纳米级膜厚的相对标准偏差可达10%,但无法提供薄膜中元素价态和结构的信息.XPS能够对薄膜中的元素价态和结构进行分析;可以利用XPS变角度法和离子溅射法测定钢板表面纳米级膜厚,但变角度法仅适合于10 nm以下的膜厚测定,而离子溅射法会受到样品表面粗糙度的影响.结果表明,不同的
本文研究了氩内标在辉光放电质谱测定中的应用.对氩离子及其形成的双原子、三原子离子的离子强度和干扰情况等进行比较后,选择氩的双原子离子(78Ar2+)为内标.考察了辉光放电电流和放电电压对氩内标质谱行为的影响.氩内标离子强度与基体内标离子强度的关系表明,氩内标与基体内标对样品分析有相同的校正作用.实验表明,采用氩内标可以有效地减小分析样品间不同、放电条件波动对分析结果造成的影响;并与采用基体内标的分
随着技术的发展与进步,辉光放电发射光谱仪(GD-OES)的功能也在不断的丰富和扩展,其性能日臻完善,是材料(导体或非导体)表面和逐层分析的理想方法,可以研究材料表面至几百微米深的组成分布,典型的深度分辨率是2-10 nm.这种技术在各种材料工业上的分析应用对材料的质量控制、改进材料的性能有着重要的作用.应用领域包括半导体工业、汽车工业、钢铁工业、玻璃、陶瓷材料和建筑材料工业等。本文介绍 辉光放电光
本文主要介绍了辉光放电光谱法分析金属材料表面的纳米级薄膜.通过优化辉光光源的放电参数,计算标准样品的溅射率.经过溅射率校准后,建立各分析元素分析强度和分析浓度的标准工作曲线,从而形成了纳米级薄膜的定量表面分析方法.铝基复合氧化膜和易锈蚀冷轧板的分析实验证明,本方法对膜厚和元素浓度分布的测定具有良好的准确性,可以应用于多种金属材料表面纳米级厚度膜层的研究.
随着科学技术的不断发展,为了更好地提供和供您参考选择高频红外碳硫分析专用坩埚,超低碳坩埚,现将我司研制的坩埚的质量控制方法和使用方法介绍。
近年来辉光放电光谱仪(GDS-Glow discharge spectrometer)越来越多的被大家所了解及认知,利用辉光放电光谱仪可进行材料的总量分析及表面逐层分析.本文研究不同材料分析对辉光激发光源及工作模式的最佳选择。