【摘 要】
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本文介绍了HIPMS技术放电等离子体的特点,即等离子体密度高、溅射材料离化率高、离子平均电荷数高、成膜离子比例大、离子能量高等.HPPMS技术制备的薄膜由于受到高能离子轰击
【机 构】
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哈尔滨工业大学材料学院现代焊接生产技术国家重点实验室等离子体表面技术与设备研究所,哈尔滨150001
【出 处】
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2009年薄膜技术高峰论坛暨广东省真空学会学术年会
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本文介绍了HIPMS技术放电等离子体的特点,即等离子体密度高、溅射材料离化率高、离子平均电荷数高、成膜离子比例大、离子能量高等.HPPMS技术制备的薄膜由于受到高能离子轰击,更加致密、缺陷少、表面光滑,进而表现出较高的硬度、结合力、耐磨性、耐腐蚀性,以及抗高温氧化性能.作者以TiN薄膜的沉积为例，利用这种电源极易获得颜色金黄且膜基结合力很高的薄膜，工艺范围很宽，即使对本实验室所使用的小圆形靶，也非常容易得性能优异的膜层。
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