铁酸铋基多铁性薄膜的低损耗和低漏电流调控

来源 :中国物理学会2012年秋季学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：comeon833833

【摘要】

：

用磁控溅射在Pt/Ti/SiO2/Si(100)基片上制备掺钕铁酸铋多铁性薄膜(Bi0.875Nd0.125)FeO3 (BNF) 和铁电薄膜(Ba0.65Sr0.35)TiO3 (BST),形成单层BNF/Pt/Ti/SiO2/Si(100)薄膜、双

【作者】

：

唐新桂马才兵蒋艳平刘秋香

【机构】

：

广东工业大学物理与光电工程学院,广州 510006

【出处】

：

中国物理学会2012年秋季学术会议

【发表日期】

：

2012年期

【关键词】

：

铁酸铋铁电薄膜低损耗 SiO2 BST BNF 三明治结构磁控溅射

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用磁控溅射在Pt/Ti/SiO2/Si(100)基片上制备掺钕铁酸铋多铁性薄膜(Bi0.875Nd0.125)FeO3 (BNF) 和铁电薄膜(Ba0.65Sr0.35)TiO3 (BST),形成单层BNF/Pt/Ti/SiO2/Si(100)薄膜、双层BNF/BST/Pt/Ti/SiO2/Si(100)薄膜结构,或形成三明治结构BST/BNF/BST/Pt/Ti/SiO2/Si(100)薄膜.

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