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HDP刻蚀系统可以在低气压下提供高密度的等离子体,从而获得良好的刻蚀特征.本文详细介绍了在HDP刻蚀系统中离子和中性粒子的输送过程及其遵循的基本规律,并且介绍了经化学改性的表面层在刻蚀过程中所起的作用.
HDP系统中的等离子体刻蚀技术
【摘 要】
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HDP刻蚀系统可以在低气压下提供高密度的等离子体,从而获得良好的刻蚀特征.本文详细介绍了在HDP刻蚀系统中离子和中性粒子的输送过程及其遵循的基本规律,并且介绍了经化学改
【机 构】
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清华大学微电子所
【出 处】
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第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会
【发表日期】
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2003年期
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