直拉硅单晶的辐射效应和加固方法

来源 :第十一届全国半导体集成电路、硅材料学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sisi_g
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该文概述了直拉硅单晶在快中子、γ射线、电子辐照下的辐照效应(主要是载流子去除效应和少子寿命的降低),对γ辐照实验做了重点研究,发现在总剂量10〈’5〉 ̄10〈’6〉rad(Si)下,直拉硅单晶电阻率变化不大,寿命明显降低,采用大剂量掺锗及γ预辐照并退火的方法,可提高硅单晶的少子寿命并使之更稳定。
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