高性能纳米薄膜软磙材料及应用研究

来源 :第四届中国功能材料及其应用学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:whitesharke
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软磁薄膜材料与器件是近期国际国内电子器件实现“小.轻.薄.精”的热点.本文报道了高性能软磁薄膜的溅射工艺,纳米晶化和性能改进的途径.基于已研制的Fe基、Co基纳米晶软磁薄膜,成功制备出薄膜变压器和电感器,使绕组、磁芯、绝缘膜层全薄膜化.薄膜变压器的初级电感在0.5~0.6μH之间,次级电感0.3~0.4μH之间,工作频率f<20MHz.
其他文献
利用水热反应合成得到上述标题化合物,并对其进行X-射线衍射研究.晶体结构的测定结果如下:晶体属于单斜晶系,空间群为P2,晶胞参数如下:a=14.957(1)×10m,b=16.535(1)×10m,c=16.159(1)×10m,β=108.586(2)°.最终的偏离因子为R=0.0499,Rw=0.170.从该化合物的结构可看出四个磷原子们于笼的表面,而不像普通的杂多化合物那样们于笼的中央,这使
本文用三种N-取代的β-氨乙基膦酸(R)RRNCHCHPOH(1a,R=R=R=CHCH;1b,R=H,R=HNCHCH;1c,R=H,R=HOCHCH)为原料,与NaWO·2HO反应,经酸化、乙醚萃取法制得三种相应的有机膦酸-钨杂多酸.通过元素分析、IR、UV、XRD、TG-DSC等手段对其结构进行表征,确证制得的三种杂多酸均为Keggin结构杂多酸,P:W=1:12,可表示为(R)RRNCHC
研究了添加BiFeO和Ba(CuW)O的Pb(ZrTi)O低温烧结行为,测定了烧结活化能,结果表明材料的烧结机构为体积扩散过程.
金属硅化物的制备方法和工艺条件对硅化物的形成及分布有显著的影响,从而影响其显微结构.本文采用高分辨电镜观察薄膜的界面结构,研究结果表明,溅射方法制备的PtSi/p-Si异质薄膜分为三种典型结构:单层薄膜、多层薄膜和岛状薄膜,并分析了各自的特征.
采用助溶剂法,生长了外形尺寸为15mm×25mm×60mm的大尺寸PrPO单晶.测量了该晶体的室温吸收谱,并根据Judd-Ofelt理论,拟合出晶体场唯象强度参数:Ω=0.1801×10cm,Ω=4.0987×10cm,Ω=2.4852×10cm.计算了各能级的辐射跃迁几率A,振子强度f,辐射寿命τ,荧光分支比β等,并根据这些光学参量,讨论了该晶体的部分性能和应用前景.
采用氨水-尿素沉淀法,研究了不同pH值条件下制得α-FeO纳米粉体的性能,对制备过程中氢氧化铁前驱体分散性和表面电位之间的关系进行了系统的研究,并从双电层理论及反应机理分析了pH值对沉淀的形成及团聚状态的影响,得到了反应的优化条件(溶液的pH值应控制在9以上),制得了粒径小、颗粒分布均匀、少团聚的α-FeO纳米粉体.
由溶胶凝胶法制备出Pd/r-AlO催化膜及镧掺杂改性的La/Pd/r-AlO膜,研究了镧的掺杂对Pd/r-AlO膜热稳定性的影响.用DTA,XRD,GET分别对膜的晶相和微孔结构(包括比表面积,孔径和孔容)进行了研究,结果发现:镧的掺杂明显提高了a-AlO的相变温度和高温下Pd/r-AlO催化膜的热稳定性.Pd/r-AlO经1100℃处理5h后,其比表面积,孔径和孔容分别为4.46m/g,35.1
采用中空柱状阴极直流磁控溅射装置制备了YBCO超导薄膜.应用原子力显微镜(AFM)研究了在最佳工艺条件下,沉积在LaAlO和Zr(Y)O上的具有C轴取向的YBCO超导薄膜及其相应衬底的表面形貌.结果表明:生长的YBCO膜都具有较好的表面结构.在LaAlO单晶衬底上的YBCO膜形成大颗粒岛状结构,颗粒生长整齐;尺寸大小均匀;生长在单晶Zr(Y)O上的YBCO膜则形成起伏较大的层状与岛状生长的混合结构
本文采用掺杂的方法,制备了掺杂型环氧树脂,用胺类进行固化,研究了稀释剂、掺杂剂、固化剂等因素对固化物的电性能、机械性能的影响.实验结果表明:采用掺杂的方法,可以制备性能良好的抗静电、屏蔽材料.
本文报道一种用于激光限幅的新材料——长碳链八烷氧基金属酞菁及其在甲苯中的光限幅特性.目标分子是八-β-十二烷氧基镍酞菁((CHO)PcNi)和铅酞菁((CHO)PcPb).对于8ns脉冲激光,在532nm处T/To=0.5时,((CHO)PcPb)的限幅阈值是27mJ/cm,而在同样条件下测定的C的限幅阈值是170mJ/cm;在高入射能流下(≥4J/cm),样品溶液的非线性透过率可低至1℅,但尚未