退火处理对氧化镁薄膜光学特性的影响

来源 :2004年全国光电技术学术交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xiachl141
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氧化镁(MgO)薄膜的光学特性直接和间接影响等离子体显示器的工作特性,研究MgO薄膜的光学特性是很有必要的.本文研究了电子束蒸发法制备的氧化镁薄膜退火后的可见、红外光谱.高通氧量或高温制备的MgO薄膜在退火后保持较高的可见光透过率,而低通氧量或较低温度制备的薄膜的透过率在退火后下降.结晶取向或薄膜的结晶性是薄膜可见光谱变化的主要原因,表面光洁度对可见光谱特性没有大的影响.退火使得所有MgO薄膜的红外光谱中水吸收峰减弱.薄膜致密性是薄膜红外光谱变化的主要原因。
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