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Ta[*v2*]O[*v5*]薄膜的低能离子辅助蒸镀
Ta[*v2*]O[*v5*]薄膜的低能离子辅助蒸镀
来源 :全国光学薄膜技术交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:markwolf
【摘 要】
:
用低能氧离子辅助蒸镀技术,制备了一系列Ta[*v2*]O[*v5*]薄膜样品。测量了薄膜的光吸收和光散射。实验指出,离子束轰击和基片加温同时并举,能够制得透明的Ta[*v2*]O[*v5*]薄膜。
【作 者】
:
周九林
张菀
杨德利
【机 构】
:
兵器部第二0九研究所
【出 处】
:
全国光学薄膜技术交流会
【发表日期】
:
1986年期
【关键词】
:
薄膜样品
低能
离子束轰击
蒸镀技术
同时并举
离子辅助
光吸收
光散射
实验
加温
基片
测量
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用低能氧离子辅助蒸镀技术,制备了一系列Ta[*v2*]O[*v5*]薄膜样品。测量了薄膜的光吸收和光散射。实验指出,离子束轰击和基片加温同时并举,能够制得透明的Ta[*v2*]O[*v5*]薄膜。(本刊录)
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