【摘 要】
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我们通过将黑色矩阵转移到array 基板,CF 基板只保留PS 膜层的方法,解决了曲面屏幕黑色矩阵偏移造成的mura 问题.随着材料技术的改进,通过光罩不同透过率的设计,可以将黑色矩阵(BM)以及隔离子(PS)在同一道制程做出,简称BPS 技术.BPS 技术可以进一步缩减CF 制程的道数,达到提高产能,平/曲屏幕共用一种设计的目的 .
【机 构】
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深圳市华星光电技术有限公司显示技术开发部,广东深圳,518132 深圳市华星光电技术有限公司材料制
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我们通过将黑色矩阵转移到array 基板,CF 基板只保留PS 膜层的方法,解决了曲面屏幕黑色矩阵偏移造成的mura 问题.随着材料技术的改进,通过光罩不同透过率的设计,可以将黑色矩阵(BM)以及隔离子(PS)在同一道制程做出,简称BPS 技术.BPS 技术可以进一步缩减CF 制程的道数,达到提高产能,平/曲屏幕共用一种设计的目的 .
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