栅氧化层击穿特性的实验分析和机理研究

来源 :第七届全国可靠性物理学术讨论会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:asdfsadfsad
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该文用斜坡电压法研究了栅氧化层的击穿特性,通过对I-V特性曲线与FN理论曲线的对比以及对击穿电荷的研究,认为在用斜坡电压法研究栅氧化层可靠性时,I-V曲线偏离理论曲线的多少、击穿电荷的大小反映出栅氧化层中缺陷的多少以及对栅氧化层可靠性的影响程度。
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