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高功率脈沖磁控濺射由於高等離子體密度已經受到業界重視.與常規磁控濺射相比,高密度磁控濺射擁有更多的優勢:更好的膜基结合力、可進行更低溫度的鍍膜工藝、膜層結構緻密性和良好的厚度均匀性、容易得到高化學劑量比的化合物膜層等等.
新型可控波形高功率脈冲磁控電源及放電研究
【摘 要】
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高功率脈沖磁控濺射由於高等離子體密度已經受到業界重視.與常規磁控濺射相比,高密度磁控濺射擁有更多的優勢:更好的膜基结合力、可進行更低溫度的鍍膜工藝、膜層結構緻密性
【机 构】
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哈爾濱工業大學
【出 处】
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2015第十一届海峡两岸薄膜科学与技术研讨会
【发表日期】
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2015年11期
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