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微电子系统的三维集成极大地缩短了互连长度、时延和减小系统尺寸,同时还可通过异质集成实现多功能性。硅通孔是实现三维集成系统高性能的关键模块。本文详细阐述了硅通孔MOS电容效应的电气模型,并对硅通孔的几项几何和材料参数进行了参数扫描分析,研究了各项参数对TSV电容-电压曲线的影响。
硅通孔MOS电容效应的电气建模分析
【摘 要】
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微电子系统的三维集成极大地缩短了互连长度、时延和减小系统尺寸,同时还可通过异质集成实现多功能性。硅通孔是实现三维集成系统高性能的关键模块。本文详细阐述了硅通孔MOS
【机 构】
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南京航空航天大学电子信息工程学院; 毫米波国家重点实验室;
【发表日期】
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2004年期
【基金项目】
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毫米波国家重点实验室开放课题经费资助,项目编号K201304
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