热等静压(HIP)过程对CVD ZnS显微结构的影响

来源 :第四届中国功能材料及其应用学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：ys331223

【摘要】

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本文通过测量热等静压(HIP)前后CVD ZnS的光学透过率,采用分析电子显微镜、金相显微镜和X射线衍射对原生CVD ZnS和经热等静压(HIP)处理后的CVD ZnS的显微结构和晶体结构进行

【作者】

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宋睿丰余怀之霍承松黄万才鲁泥藕

【机构】

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北京有色金属研究总院红外材料研究所(北京)

【出处】

：

第四届中国功能材料及其应用学术会议

【发表日期】

：

2001年期

【关键词】

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热等静压显微结构光学透过率分析电子显微镜金相显微镜射线衍射晶体结构光学性能处理测量材料

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本文通过测量热等静压(HIP)前后CVD ZnS的光学透过率,采用分析电子显微镜、金相显微镜和X射线衍射对原生CVD ZnS和经热等静压(HIP)处理后的CVD ZnS的显微结构和晶体结构进行了分析.根据热等静压(HIP)处理前后CVD ZnS光学透过率和材料内部显微结构的不同,分析了热等静压过程提高CVD ZnS光学性能的原因.

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