【摘 要】
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本文研究讨论了应用CuR-1添加剂的 HEDP(羟基乙叉二膦酸)直接镀铜新工艺.测定了镀液和镀层的性能并与未加CuR-1添加剂的HEDP-Cu(1)和CN-Cu镀液的结果作了比较.结果表明加入Cu
【出 处】
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2004年北京推动电镀与精饰清洁生产技术论坛
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本文研究讨论了应用CuR-1添加剂的 HEDP(羟基乙叉二膦酸)直接镀铜新工艺.测定了镀液和镀层的性能并与未加CuR-1添加剂的HEDP-Cu(1)和CN-Cu镀液的结果作了比较.结果表明加入CuR-1添加剂的HEDP-Cu(2)镀液能扩大允许阴极电流密度(D<,k>)(自1.5A/dm<2>扩大至3.0A/dm<2>)并提高了整平性,克服了原HEDP-Cu(1)镀液的某些缺点.因此,应用CuR-1添加剂的HEDP-Cu(2)镀液作为替代氰代镀渡是有发展前途的无氰铜新工艺.
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