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本文评述了近年来PDP工艺中的MgO(氧化镁)保护膜制作的技术进展,重点讨论了电子束蒸镀法与其它保护膜制作工艺的区别以及影响电子束蒸镀的各种因素及真空技术的应用.另外,也讨论了电子束蒸镀法使用靶材--MgO(氧化镁)的各种物理特性等。
等离子显示器(PLASMA DISPLAY PANEL)中MgO(氧化镁)蒸镀工艺的进展--真空电子束蒸镀与MgO(氧化镁)材料
【摘 要】
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本文评述了近年来PDP工艺中的MgO(氧化镁)保护膜制作的技术进展,重点讨论了电子束蒸镀法与其它保护膜制作工艺的区别以及影响电子束蒸镀的各种因素及真空技术的应用.另外,也
【机 构】
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上海松下等离子显示器有限公司,技术部
【出 处】
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上海市真空学会成立20周年暨第九届学术年会
【发表日期】
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2004年期
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