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ICP-AES法测定钴基合金中高含量硅和硼
ICP-AES法测定钴基合金中高含量硅和硼
来源 :第一届全国高速分析学术交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:Fllyy
【摘 要】
:
本文研究了ICP-AES法测定硅和硼时,钴基体及共存元素的干扰情况,建立了以王水和氢氟酸溶样,以硅212.412nm和硼208.959nm作为分析线,ICP-AES法直接测定钴基合金中高含量硅和硼
【作 者】
:
李志波
陈明
【机 构】
:
中科院金属研究所分析测试部,辽宁,沈阳,110016
【出 处】
:
第一届全国高速分析学术交流会
【发表日期】
:
2005年5期
【关键词】
:
钴基合金
硅硼检测
发射光谱仪
高速分析
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本文研究了ICP-AES法测定硅和硼时,钴基体及共存元素的干扰情况,建立了以王水和氢氟酸溶样,以硅212.412nm和硼208.959nm作为分析线,ICP-AES法直接测定钴基合金中高含量硅和硼的方法.光谱背景扣除法校正,无需基体匹配.方法回收率为99%~103%,RSD<1%.
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