【摘 要】
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在集成电路工艺中,钼是新型铜互连扩散阻挡层的选择之一.已经发现甘氨酸对钼在碱性双氧水中的腐蚀有抑制作用.本文研究了在碱性双氧水中甘氨酸对钼的电化学行为的影响,并通过拉曼光谱、X射线光电子能谱(XPS)和扫描电子显微镜(SEM)对样品进行了表面分析.开路电位(OCP)、恒电位曲线等电化学实验结果与表面分析结果相吻合.结果表明甘氨酸促进了MoO3的溶解,使得氧化层中Mo2O5增多,进而抑制Mo的腐蚀并
【机 构】
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复旦大学ASIC和系统国家重点实验室,微电子学院,上海市邯郸路220号,200433
【出 处】
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2016年上海市研究生学术论坛——电子科学与技术
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在集成电路工艺中,钼是新型铜互连扩散阻挡层的选择之一.已经发现甘氨酸对钼在碱性双氧水中的腐蚀有抑制作用.本文研究了在碱性双氧水中甘氨酸对钼的电化学行为的影响,并通过拉曼光谱、X射线光电子能谱(XPS)和扫描电子显微镜(SEM)对样品进行了表面分析.开路电位(OCP)、恒电位曲线等电化学实验结果与表面分析结果相吻合.结果表明甘氨酸促进了MoO3的溶解,使得氧化层中Mo2O5增多,进而抑制Mo的腐蚀并改善表面形貌.
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