铜掺杂碳化硅的光学性质的第一性原理研究

来源 :中国物理学会2016年秋季会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:cryingboy
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  利用第一性原理计算方法,对纯的立方碳化硅和铜掺杂立方碳化硅的几何结构、电子结构和光学性质进行了对比研究,计算结果表明掺杂后立方碳化硅的能带结构由原来的间接带隙变为直接带隙,并且,带隙宽度随着铜杂质浓度的增加而增大.通过对吸收谱的研究,发现在7.5 至10 电子伏特的高频区域,随着铜杂质浓度的增加,加速了光生电子和空穴对的重组,抑制了光催化特性,从而使得吸收谱的强度逐渐减弱.并且利用电子带间迁移对吸收峰进行了分析,给出了合理的解释.
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有机半导体激光器的研究一直是纳米光子学和有机光电子学领域非常活跃的研究领域。而电泵浦有机半导体激光器则是该领域尚未解决的科学难题,面临多方面的技术和物理学挑战。其问题的核心在于电泵浦激光发射所要求的阈值远大于有机半导体薄膜电致发光器件的破坏阈值。
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